데이터 저장 매체

대용량 그리고 장기간 저장이 가능한 자기 테이프 저장 매체

이 저장 매체는 바륨 페라이트(BaFe)를 사용합니다. 바륨 페라이트는 미분화되더라도 필요한 자기 성질을 유지하고, 장기간 보관 성능을 제공할 뿐만 아니라 노이즈가 적으면서 금속 자기 재질에 우수한 주파수 특성을 가집니다. 후지필름의 원천 기술로 입자를 미분화하고 자기층을 균일하게 적용하고 펼친 경우 기록 용량은 35TB에 달합니다.

NANOCUBIC 기술

BaFe 자기 재질은 1600 nm3로 마이크로나이즈됩니다. 그 결과 표면 기록 밀도가 29.5 Gbpsi에 달해 데이터 카트리지 기록 용량이 확장되었습니다.

기초

  • 재료 화학
  • 후지필름 원천

프로세스리스 서멀 CTP 플레이트 XZ-R

고품질 성능을 구현하는 동시에 현상액을 사용하지 않는 놀라운 환경 성능 구현

실제 프로세스리스 CTP는 알칼리를 개발할 필요가 없으며 검 클리닝(Gum cleaning)이 실현되었습니다. 이를 통해 화학 물질과 폐기물 처리 비용을 제거하여 환경 부담이 줄어듭니다. 서멀 CTP 셋터로 플레이트를 빠르게 노출시킨 후 즉시 프레스에 셋팅할 수 있습니다.

FPD 기술과 RSS 기술

FPD (Fine Particle Dispersion) 기술은 감광층의 특수 미립자를 펼치므로 이미지 형성 성능과 이미지 영역 강점이 동시에 구현됩니다. RSS (Rapid Stable Start-up)를 사용하면 이미지 영역 장점과 상충되는 화질이 구현되고 비이미지 영역이 쉽게 제거되므로 이미지가 빠르고 안정적으로 형성됩니다.

기초

  • 재료 화학
  • 이미징

instax

사진을 촬영한 장소에서 바로 인화하는 즉석 사진 촬영 시스템

사진을 촬영하고 싶으면 즉석 사진 촬영 시스템으로 사진을 촬영하고 바로 인화할 수 있습니다. instax로 사진을 촬영하면 즉시 현상액이 필름에 도포되고 빛에 노출된 색 염료는 이미지 수신층에 착색되고 고정되면서 이미지가 만들어집니다. 이는 후지필름만이 보유하고 있는 즉석 사진 인화 기술입니다.

사진 촬영 시스템이 모두 통합

10 μm 두께 필름에는 감광 및 염료 착색층이 18개 있습니다. 또한 필름에는 빛에 노출, 이미지 현상과 생성에 필요한 이미지 수신층, 현상액 포드 및 현상 제어층이 있어 instax를 최고의 사진 촬영 시스템으로 만듭니다.

기초

  • 재료 화학
  • 이미징
  • 광학
  • 세계 유일

ArF 이머전/탑코트리스 포토레지스트(반도체 제조 공정용 소재)

소수성부터 친수성까지 극성 변환 기술로 구현된 보호막이 필요 없는 포토레지스트

극성 변환 기술을 활용하여 레지스트 표면은 노출 시간의 소수성(방수)에서 현상 시간의 친수성으로 변화됩니다. 이 기술로 노출 시간에 발생하는 웨이퍼 성분의 물이 용해되는 것을 방지하기 위해 사용되는 보호막이 필요 없어졌습니다.

ArF 이머전 공정

공기 대신 굴절률이 높은 물을 스테퍼 렌즈와 웨이퍼 사이의 빈 공간에 채워 해상도를 향상시키는 기술입니다. 이 기술로 인해 광원이나 포토마스크를 변경하지 않고도 마이크로 프로세싱이 가능해졌습니다.

기초

  • 재료 화학
  • 광학
  • 후지필름 원천

NTI 포토레지스트(반도체 제조 공정용 소재)

네거티브 이미지 생성 방식을 사용하는 이 포토레지스트로 획기적인 회로 패턴 소형화 달성

이 기술은 노출 부분을 실리콘 웨이퍼에 유지시키는 네거티브 이미지 생성 방식을 도입한 기술입니다. 이 기술로 기존 포지티브 현상보다 섬도 수준이 우수한 회로 패턴을 제작할 수 있어 반도체 성능이 크게 향상됩니다. 감도가 우수하므로 소요 시간도 단축됩니다.

네거티브 이미지 생성 방식

포토마스크를 통과하는 광 영역을 포지티브 현상보다 넓힐 수 있어 기존 노출 시스템으로도 촘촘한 패턴을 만들 수 있습니다.

기초

  • 재료 화학
  • 광학
  • 후지필름 원천